多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析

收藏
  • 【作者】廖达海宁翔吴南星
  • 【关键词】氮化硅陶瓷 制备
  • 【出版社】北京工业大学出版社
  • 【出版日期】2020
  • 【ISBN】978-7-5639-7683-6
  • 【中图分类号】 TQ174.75
  • 【内容简介】本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程,同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。全部展开
  • 【页码】126页
  • 【文献类型】图书
  • 【所属馆】

    浙江图书馆 台州市椒江区图书馆

  • 【获取途径】 文献传递
联合资源统一检索系统 超星 V2.0
已保存的题录(0)
选出输出字段:
加载保存列表...
清空文件夹
注:
通过勾选,使对应参与检索,从而可以轻松获得更全面的检索结果。